带你了解平板抛光机有哪些工作原理

　平板抛光机把抛光分为两个阶段。粗磨的目的是去除磨损损伤层，使其达到大抛光速度。由粗抛引起的表面损伤是次要考虑因素，但应尽量小。第二个是完成（或后抛），目的是消除表面粗糙造成的损害，并尽量减少抛光损伤。

　　抛光机抛光时，试样研磨面和抛光盘应完全平行并均匀地压在阀瓣上，防止样品因压力过大而飞出并产生新的磨损痕迹。同时还应使样品旋转，并沿车轮半径方向来回移动，以避免在打磨抛光布过程中局部磨损过快，保持粉浆的加入，使抛光布保持一定的湿度。

　　湿度过大，降低了抛光的磨损效果，使试样中的硬相呈现钢中的浮凸和非金属夹杂物以及铸铁中的石墨的"拖尾"现象。湿度太小，因为摩擦热会使样品升温，润滑效果会降低，磨削表面会失去光泽，甚至会出现黑斑，而轻合金会抛出表面。

　　为了实现粗加工的目的，平板抛光机需要的转速较低，不超过600r/min;抛光时间应当比去掉划痕不再因为变形层应去除。粗抛光后，磨削表面光滑，但表面粗糙。在显微镜下，有一个均匀的细磨痕，有待消除。

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